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            高精度光掩膜基版
            
        
            
    
            

    
            
      
        
            
        
            
                 
            高精度光掩膜基版
            
                        
            
            
            
                
            
	采用當前世界最先進生產、檢測設備以及工藝技術，結合公司獨創技術，建成能夠生產75×75mm至700×800mm各種規格的濺射勻膠鉻版生產線，產品廣泛應用于新型平板顯示器件、集成電路、精細光學、線路板、微納加工及激光防偽等多種產業的光掩膜制作

            

            
	 

            

        
            
    
            
                
            
      
                
            

            






             
            

                    



            
    
            
                            

                    
            

            
        
            
            
            
 
                
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